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硅晶片真空、气氛保护退火炉

产品类别:立式高真空管式炉

产品型号:NB200V
真空机组:分子泵+机械泵
最高温度:≤900℃
炉腔尺寸:φ200*200mm
极限真空度:1.33*10-4Pa

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0512-50126171

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详细介绍

该设备是由本公司自主研发,具有国家发明专利的高端真空设备。它具有效率高、成品质量好、美观易操作维护等特点。

 设备可手动和自动模式切换,PLC程序控制,技术水平国际领先。可处理材料有:钛合金、镍钛合金、软磁合金、坡莫合金

钕铁硼、不锈钢等金属材料。本公司拥有自主实验室两个,共达30余台不同类型真空设备,可为客户提供免费打样服务。


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